据2024年7月公布的ESI（Essential Science Indicators）数据库最新统计数据显示，西华大学电气与电子信息学院蒋文波教授团队发表的论文“Lithography Alignment Techniques Based on Moiré Fringe”再次入选物理学领域ESI全球Top-1%高被引论文（Highly Cited Papers）。
据悉，该论文已于2024年3月、5月连续两次入选ESI高被引论文，2024年7月是第三次入选，这表明团队在光刻对准领域的研究成果受到了国内外同行的广泛关注。
论文详细讨论了莫尔条纹光刻对准技术的发展历程、对准原理和整体流程；全面分析了影响对准精度的主要因素，并给出了相应的优化方案；最后从标记结构、对准方案和对准图像算法处理等方面深入剖析了莫尔条纹光刻对准技术的发展趋势和研究热点。
该研究工作受到国家自然科学基金和四川省杰出青年科学基金的资助。蒋文波教授为该论文的第一作者及通讯作者，2020级电子信息专业硕士研究生王画然为论文的第二作者。
据了解，蒋文波教授研究团队长期聚焦于微/纳光刻关键技术、深度学习图像处理等领域的研究，取得了一系列研究成果。已获批国家自然科学基金2项、四川省杰出青年科学基金1项、其余各类项目近20项；发表SCI论文40余篇，其中入选ESI-1‰论文1篇、ESI-1%论文1篇；获授权美国发明专利1件、荷兰发明专利2件、中国发明专利近20件；出版英文学术专著1部。
其中，团队负责人蒋文波教授曾入选四川省学术和技术带头人后备人选（2014年）、四川省天府峨眉计划（2020年）、四川省杰出青年科学基金（2021年）、郫都区菁英百人培养计划（2021年）、西华大学西华学者（2019年）、西华大学青年学者（2014年）等人才称号或项目。（通讯员：蒋文波）
